Un laser révolutionnaire va permettre la conception de processeurs (beaucoup) plus rapides et performants

Une avancée technologique majeure pourrait révolutionner la production de semi-conducteurs. Le Lawrence Livermore National Laboratory (LLNL) s'attelle à mettre au point un laser de dernière génération capable d'optimiser la lithographie EUV, ouvrant ainsi la voie à la production de puces plus rapides, plus petites et moins énergivores.

Voilà une innovation qui devrait faire parler d’elle. En Californie, le Lawrence Livermore National Laboratory (LLNL), l’un des deux laboratoires des États-Unis dont la mission consiste à créer des armes nucléaires, est à la pointe du développement de la lithographie extrême ultraviolet (EUV), une technique utilisée pour fabriquer des semi-conducteurs, principalement dans la production de circuits intégrés pour les microprocesseurs.

Des chercheurs planchent sur une nouvelle évolution à laquelle ils ont donné le nom de "lithographie au-delà de l’EUV". Cette nouvelle étape vise à en finir avec les limitations actuelles de la technologie EUV pour rendre possible la production de semi-conducteurs plus petits, plus puissants et plus efficaces, apprend-on dans un récent communiqué de presse du LLNL dont Interesting Engineering s’est fait l’écho le dimanche 29 (...)